[发明专利]原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法有效
申请号: | 200810130060.X | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101354529A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 山添贤治 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法。所述原版数据生成方法包括:基于表示利用照明光在投影光学系统的光瞳面上形成的光强度分布的函数以及投影光学系统的光瞳函数,计算二维透射交叉系数;基于所计算出的二维透射交叉系数和投影光学系统的物面上的第一图案,计算近似空间像,所述近似空间像是通过投影光学系统的像面上的空间像的多个分量中的至少一个分量对所述空间像进行近似而获得的;基于所述近似空间像,生成具有所述物面上的第一图案以及辅助图案的另一图案;以及生成原版数据,所述原版数据包括通过使用由所述生成处理生成的所述另一图案作为所述物面上的第一图案重复地执行所述计算处理和所述生成处理而生成的图案。 | ||
搜索关键词: | 原版 数据 生成 方法 曝光 器件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种用于生成原版的数据的方法,该数据在利用照明光对原版进行照明以及通过投影光学系统将原版上的图案的图像投影到衬底上的处理过程中使用,所述方法包括:基于表示利用照明光在投影光学系统的光瞳面上形成的光强度分布的函数以及投影光学系统的光瞳函数,计算二维透射交叉系数;基于所计算出的二维透射交叉系数和投影光学系统的物面上的第一图案,计算近似空间像,所述近似空间像是通过投影光学系统的像面上的空间像的多个分量中的至少一个分量对所述空间像进行近似而获得的;基于所述近似空间像,生成具有所述物面上的第一图案以及辅助图案的另一图案;以及生成原版数据,所述原版数据包括通过使用由所述生成处理生成的所述另一图案作为所述物面上的第一图案重复地执行所述计算处理和所述生成处理而生成的图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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