[发明专利]用于阵列裸片放置的自对准精确基准有效

专利信息
申请号: 200810131583.6 申请日: 2008-07-11
公开(公告)号: CN101342813A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: P·J·尼斯特伦;P·M·古尔文;J·P·迈尔斯 申请(专利权)人: 施乐公司
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16;B41J2/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;廖凌玲
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用于阵列裸片放置的自对准精确基准,具体而言,本文描述了用于在成像阵列中准确定位裸片模块的阵列的方法和装置,该成像阵列包括较大的部分宽度阵列和全页面宽度阵列。该方法包括直接在单独的硅裸片模块上形成物理参考基准,以及将该单独的裸片模块定位于临时固定器上。该临时固定器包括对准工具,而切割的裸片通过将物理参考基准对着对准工具对接而放置在临时固定器上。真空将定位于临时固定器上的裸片临时地紧固,然后将永久基底附连到临时固定器的裸片上。为了永久基底而释放临时固定器,该永久基底上具有准确对准的裸片模块。
搜索关键词: 用于 阵列 放置 对准 精确 基准
【主权项】:
1.一种在成像阵列中准确地定位裸片模块的阵列的方法,该方法包括:直接在单独的硅裸片模块上形成物理参考基准;提供临时固定器,所述临时固定器包括对准工具;通过将所述物理参考基准对着所述对准工具对接而将所述裸片放置在所述临时固定器上;以及将放置的所述裸片临时地紧固在所述临时固定器上;以及将永久基底附连到放置在所述临时固定器上的所述裸片上。
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