[发明专利]具有边缘击穿抑制的雪崩光电二极管有效
申请号: | 200810132127.3 | 申请日: | 2008-07-18 |
公开(公告)号: | CN101350376A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 潘忠;大卫·维纳布尔斯;克雷格·西斯那 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | H01L31/07 | 分类号: | H01L31/07;H01L31/18 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种雪崩光电二极管,其通过修正扩散的p-n结分布而具有改进的增益均匀性。该修正通过两级掺杂过程获得,该两阶段掺杂过程包括结合常规气体源扩散的固体源扩散。对该固体源扩散材料进行选取,以将该固体源扩散材料对掺杂剂的溶度与倍增层对该掺杂剂的溶度相比较,该固体源直径介于第一及第二扩散窗之间。因此,在第二扩散期间,存在三个不同扩散区。边缘区倍增层内的掺杂剂,中间区自具有相对较高掺杂浓度的固体源材料的掺杂剂(由该固体源材料内的掺杂剂溶度限制),以及中心区暴露于自固体源材料的无限扩散源,因为它不断地从外在气体源补充新的掺杂剂。结果,从该器件的中心到边缘,掺杂浓度和扩散深度逐渐减小。该修正的扩散分布使电场分布可以控制,从而抑制边缘击穿。 | ||
搜索关键词: | 具有 边缘 击穿 抑制 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
1.一种吸收层和倍增层分离结构雪崩光电二极管SAM-APD,其包括:外延层结构,其按照下列次序生长在n掺杂衬底上:n掺杂缓冲层;非故意掺杂吸收层;缓变层;n掺杂场控层;非故意掺杂倍增层,其包括扩散的p-n结,所述p-n结具有扩散分布和有源区,所述有源区包括在所述倍增层内的扩散区;和固体源材料层;所述SAM-APD还包括:p接触,其被设置为与所述有源区电接触;光输入窗口;和n接触,所述n接触与所述n掺杂衬底电接触,其中,所述p-n结的所述扩散分布包括用于抑制边缘击穿的平滑边缘过渡。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JDS尤尼弗思公司,未经JDS尤尼弗思公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810132127.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:被检体内观察系统和被检体内观察方法
- 下一篇:汽车用快速可装卸软拉手
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的