[发明专利]一种光学玻璃蚀刻装置及方法无效

专利信息
申请号: 200810132179.0 申请日: 2008-07-22
公开(公告)号: CN101633563A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 严立巍;范国胜 申请(专利权)人: 光捷国际股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00
代理公司: 北京华夏博通专利事务所 代理人: 刘 俊
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方法,应用于将大尺寸玻璃予以蚀刻及/或薄化的情况下,使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力,并采取扫描式瀑布层流酸液涂布型式,自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描的移动方式,均匀地释出蚀刻溶液,以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时,由于光学玻璃呈现倾斜状态,因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性限制,避免了采用直立式垂直输送传动时所产生的问题,且,由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层流酸液涂布,因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。
搜索关键词: 一种 光学玻璃 蚀刻 装置 方法
【主权项】:
1.一种光学玻璃蚀刻方法,其特征在于,该光学玻璃蚀刻方法包含以下步骤:以倾斜方式摆放一光学玻璃;以及采取扫描式瀑布溢流酸液涂布型式,从光学玻璃上方以扫描移动方式,均匀地释出蚀刻溶液,使该光学玻璃被均匀地蚀刻;其中,基于以倾斜方式摆放光学玻璃,蚀刻该光学玻璃所产生的生成物,将随着剩余的该蚀刻溶液顺着该光学玻璃的倾斜方向流下,致使该生成物不会残留在该光学玻璃上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光捷国际股份有限公司,未经光捷国际股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810132179.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top