[发明专利]一种光学玻璃蚀刻装置及方法无效
| 申请号： | 200810132179.0 | 申请日： | 2008-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN101633563A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 严立巍;范国胜 | 申请（专利权）人： | 光捷国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京华夏博通专利事务所 | 代理人： | 刘 俊 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方法，应用于将大尺寸玻璃予以蚀刻及/或薄化的情况下，使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力，并采取扫描式瀑布层流酸液涂布型式，自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描的移动方式，均匀地释出蚀刻溶液，以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时，由于光学玻璃呈现倾斜状态，因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性限制，避免了采用直立式垂直输送传动时所产生的问题，且，由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层流酸液涂布，因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学玻璃 蚀刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学玻璃蚀刻方法，其特征在于，该光学玻璃蚀刻方法包含以下步骤：以倾斜方式摆放一光学玻璃；以及采取扫描式瀑布溢流酸液涂布型式，从光学玻璃上方以扫描移动方式，均匀地释出蚀刻溶液，使该光学玻璃被均匀地蚀刻；其中，基于以倾斜方式摆放光学玻璃，蚀刻该光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的该蚀刻溶液顺着该光学玻璃的倾斜方向流下，致使该生成物不会残留在该光学玻璃上。
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