[发明专利]一种光学玻璃蚀刻装置及方法无效
申请号: | 200810132179.0 | 申请日: | 2008-07-22 |
公开(公告)号: | CN101633563A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 严立巍;范国胜 | 申请(专利权)人: | 光捷国际股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 | 代理人: | 刘 俊 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方法,应用于将大尺寸玻璃予以蚀刻及/或薄化的情况下,使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力,并采取扫描式瀑布层流酸液涂布型式,自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描的移动方式,均匀地释出蚀刻溶液,以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时,由于光学玻璃呈现倾斜状态,因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性限制,避免了采用直立式垂直输送传动时所产生的问题,且,由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层流酸液涂布,因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学玻璃 蚀刻 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学玻璃蚀刻方法,其特征在于,该光学玻璃蚀刻方法包含以下步骤:以倾斜方式摆放一光学玻璃;以及采取扫描式瀑布溢流酸液涂布型式,从光学玻璃上方以扫描移动方式,均匀地释出蚀刻溶液,使该光学玻璃被均匀地蚀刻;其中,基于以倾斜方式摆放光学玻璃,蚀刻该光学玻璃所产生的生成物,将随着剩余的该蚀刻溶液顺着该光学玻璃的倾斜方向流下,致使该生成物不会残留在该光学玻璃上。
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