[发明专利]激光照射装置及使用其的激光加工系统无效
申请号: | 200810134088.0 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101354481A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 有贺润子;中村达哉;高桥浩一 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;B23K26/00;B23K26/04 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的激光照射装置及使用该激光照射装置的激光加工系统具有:激光光源;反射镜,其使从激光光源射出的激光由被活动支撑着的偏转面进行偏转;反射镜移动机构,其将偏转面配置成为使其可以相对于激光的光轴P1偏斜,而且可以在光轴P1方向上移动;空间调制元件,其对由反射镜偏转的激光进行空间调制,并形成朝向被照射面的开启光;以及投影光学系统,其将由空间调制元件形成的开启光投影于被加工面上。 | ||
搜索关键词: | 激光 照射 装置 使用 加工 系统 | ||
【主权项】:
1.一种激光照射装置,其特征在于,该激光照射装置具有:激光光源;光路偏转部,其使从该激光光源射出的激光由被活动支撑着的偏转面进行偏转;偏转面移动机构,其将该光路偏转部的偏转面配置成为使其可以相对于所述激光的光轴偏斜,而且可以在所述光轴方向上移动;空间调制元件,其具有对由所述光路偏转部偏转后的激光进行空间调制,并形成朝向被照射面的开启光的多个微小反射镜;以及投影光学系统,其将由该空间调制元件形成的开启光投影于所述被照射面上。
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