[发明专利]感光组合物,感光树脂转印膜,制备光学间隙子的方法无效
| 申请号： | 200810134169.0 | 申请日： | 2008-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN101354532A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 中村秀之;望月乔平;福重裕一;有冈大辅 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/028 | 分类号： | G03F7/028;G03F7/11;G03F7/00;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供：一种具有高的变形恢复能力并且可以消除液晶显示器件中的显示不均匀性的感光组合物，一种感光树脂转印膜，和一种使用所述的组合物或膜制备光学间隙子的方法；和一种液晶显示器件基板和一种可以消除显示不均匀性并且由此显示高质量图像的液晶显示器件。所述感光组合物包括：树脂(A)，所述的树脂(A)包括在侧链中具有包括两个以上的杂原子的环状结构的基团，在侧链中具有酸性基团的基团，和在侧链中具有烯式不饱和基团的基团；可聚合化合物(B)；和光聚合引发剂(C)。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 组合 树脂 转印膜 制备 光学 间隙 方法 | ||
【主权项】：
1.一种感光组合物，所述感光组合物包含：树脂(A)，所述的树脂(A)包括在侧链中具有包括两个以上的杂原子的环状结构的基团，在侧链中具有酸性基团的基团，和在侧链中具有烯式不饱和基团的基团；可聚合化合物(B)；和光聚合引发剂(C)。
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