[发明专利]一种含钛有机—无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜

摘要

一种含钛有机—无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜。该膜涉及主要适用于树脂镜片的抗磨损、刻划保护材料。是针对现有树脂镜片比较软、容易磨损和被刻划、影响配戴效果等不足之处而发明的。该杂化杂化膜是通过二步原料配比及合成方法实现的：第一步，利用溶胶—凝胶法水解缩合3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷与钛酸四丁脂，合成稳定的含钛倍半硅氧烷溶胶液。第二步，向含钛倍半硅氧烷中加入交联剂己二胺和稀释溶剂四氢呋喃；树脂镜片采用浸涂法，加温固化，形成网状的含钛有机—无机杂化纳米结构保护膜。本发明的特点在于该保护膜的配方科学，合成方法简单，具有良好的抗磨损、抗刻划性能，易于推广。

主权项

1.一种含钛有机-无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜，其特征在于该保护膜是按照下述原料配比及方法制得：第一步，利用溶胶-凝胶法水解缩合3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷与钛酸四丁脂的混合物，钛酸四丁脂/3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷＝5～20％(重量比)，合成稳定的含二氧化钛的3-(2，3-环氧丙氧)丙基倍半硅氧烷溶胶液，以下称含钛倍半硅氧烷；此步合成条件：稀释溶剂为四氢呋喃，四氢呋喃∶3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷＝3∶1(重量比)；催化剂用甲酸HCOOH和水H2O，HCOOH∶Si＝3～6(摩尔比)，H2O∶Si＝0.16～3(摩尔比)；合成温度为25～70℃；第二步，向反应产物含钛倍半硅氧烷中加入交联剂己二胺和稀释溶剂四氢呋喃，己二胺∶3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷＝1∶2(摩尔比)，四氢呋喃∶含钛倍半硅氧烷＝5～20∶1(重量比)；树脂镜片采用浸涂法，加温固化，固化温度及时间是：80～150℃固化1～24小时，固化后可形成网状的含钛有机-无机杂化纳米结构保护膜。