[发明专利]微结构及其制造方法无效
| 申请号： | 200810135689.3 | 申请日： | 2003-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101327904A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 拉尔夫·G·努佐;威廉·罗伯特·蔡尔兹 | 申请（专利权）人： | 伊利诺斯大学理事会 |
| 主分类号： | B81B3/00 | 分类号： | B81B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王永建 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微结构及其制造方法。在本发明的一种形式中，所述微结构包括非平面表面以及位于所述表面上的第一带有图案的层，所述第一带有图案的层包括含硅弹性体；其中所述第一带有图案的层的最小特征尺寸小于1000微米，并且所述非平面表面包括第二带有图案的层，所述第二带有图案的层包括含硅弹性体；以及连续的第一薄膜层，所述第一薄膜层包括含硅弹性体，并位于所述第一带有图案的层和所述第二带有图案的层之间。本发明的一种微结构制造方法包括在含硅弹性体的表面中形成图案；将所述图案与一基底接触；将所述氧化图案与所述基底粘合，从而使得所述图案与所述基底不可逆地附着在一起。该含硅弹性体可除去地附着在一转印垫上。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微结构，包括：非平面表面；以及位于所述表面上的第一带有图案的层，其包括含硅弹性体；其中所述第一带有图案的层的最小特征尺寸小于1000微米，并且所述非平面表面包括：第二带有图案的层，其包括含硅弹性体；以及连续的第一薄膜层，其包括含硅弹性体，并位于所述第一带有图案的层和所述第二带有图案的层之间。
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