[发明专利]晶圆表面变量的高产量映射无效
| 申请号： | 200810135874.2 | 申请日： | 2008-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN101629913A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 尹政镐;埃弗拉·罗森曼;埃瑞·拉维德;多伦·梅舒拉切;加迪·格林伯格;科比·卡恩;耶胡达·科恩;西蒙·利瓦伊 | 申请（专利权）人： | 以色列商·应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G01N21/958 | 分类号： | G01N21/958;G06T7/00;H01L21/66;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 一种用于表征样品物体的表面的方法，该方法包括：将所述表面划分为由参数变量表征的像素；以及将所述表面的方块限定为所述像素的各个组。该方法进一步包括：以利用具有不同、各种类型偏振的辐射对所述表面进行多个扫描的方式，照射所述像素；以及响应每个所述扫描，检测来自所述像素的返回辐射。对于每个扫描，响应来自每个方块中的所述像素的组的返回辐射，构造所述方块的各个方块标记。还对于每个扫描，使用所述方块的所述各个方块标记确定方块标记变量。响应所述方块标记变量，选择其中一种类型的偏振用于测试物体的随后检查。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 变量 产量 映射 | ||
【主权项】：
1.一种用于表征样品物体的表面的方法，该方法包含：将所述表面划分为由参数变量表征的像素；将所述表面的方块限定为所述像素的各个组；在利用具有不同、各种类型偏振的辐射对所述表面进行多个扫描中，照射所述像素；响应各个所述扫描，检测来自所述像素的返回辐射；对于每个扫描，响应来自每个方块中的所述像素的组的返回辐射，构造所述方块的各个方块标记；对于每个扫描，使用所述方块的所述各个方块标记来确定方块标记变量；以及响应所述方块标记变量，选择其中一种类型的偏振用于测试物体的随后检查。
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