[发明专利]基板处理装置的计划生成方法及其程序有效
申请号: | 200810136129.X | 申请日: | 2008-07-10 |
公开(公告)号: | CN101398684A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 山本真弘;山田大吾 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418;H01L21/00;G02F1/1333 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马少东;徐 恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种基板处理装置的计划生成方法及其程序。在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时,控制部为了按照包含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺序,所述方法包括以下步骤。即,执行基本配置方法和第一配置方法,从而生成多个计划的步骤,以及在生成所述多个计划的同时,从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤;上述的两步骤由所述控制部执行。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 计划 生成 方法 及其 程序 | ||
【主权项】:
1. 一种基板处理装置的计划生成方法,在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时,控制部为了按照包含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺序,其特征在于,包括以下步骤:执行基本配置方法和第一配置方法,从而生成多个计划的步骤,在生成所述多个计划的同时,从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤;上述的两步骤由所述控制部来执行,所述基本配置方法是:按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图,在对任意一个批组配置了最初的处理工序后,在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时,在各批组的下一处理工序中,搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序,来作为下一处理工序,所述第一配置方法是:在根据所述基本配置方法配置处理工序,并且所述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下,取消该处理工序的配置,并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点开始进行重新搜索。
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