[发明专利]光罩修补方法无效
| 申请号： | 200810141922.9 | 申请日： | 2008-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101344718A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵;瞿照地 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光罩修补方法，该方法包括以下步骤：采用加热装置对光罩上待修补的针孔空洞表面进行第一次加热；采用纳米级的石英导管注射，将石英导管内的修补液注入针孔空洞；采用加热装置对所述注入修补液后的针孔空洞进行第二次加热。本发明避免了导管和修补液的浪费，并且可以准确地控制修补精度与厚度，大大缩短了修补时间。 | ||
| 搜索关键词： | 修补 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光罩修补方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：采用加热装置对光罩上待修补的针孔空洞表面进行第一次加热；采用纳米级的石英导管注射，将石英导管内的修补液注入针孔空洞；采用加热装置对所述注入修补液后的针孔空洞进行第二次加热。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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