[发明专利]在三价铬镀液中制备铬-碳纳米管复合镀层的方法无效

专利信息
申请号: 200810142997.9 申请日: 2008-12-29
公开(公告)号: CN101768772A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 张俊彦;曾志翔;梁爱民 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C25D15/00 分类号: C25D15/00;C25D3/06
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 代理人: 方晓佳
地址: 730000甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种在三价铬镀液中制备铬-碳纳米管复合镀层的电沉积方法。本发明在含氯化铬的基础电解液中,添加的碳纳米管,通过控制适当的工艺条件,制备出表面平整,与底材结合牢固铬-碳纳米管复合镀层。其优点在于制备出的铬-碳纳米管复合镀层厚度大于50μm,比六价铬电镀镀层更高的硬度、抗磨性能和抗腐蚀性能,可在一定的摩擦工况条件下代替传统的六价铬电镀工艺。
搜索关键词: 三价铬镀液中 制备 纳米 复合 镀层 方法
【主权项】:
一种在三价铬镀液中制备铬-碳纳米管复合镀层的方法,其特征在于:每升电解液中含有六水合氯化铬为100~210g、溴化铵40~50g、氯化钠20~35g、硼酸20~30g、碳纳米管0.1~10g以及甲酸、乙酸、乙二酸、氨基乙酸、甲酸盐、乙酸盐、乙二酸盐中的一种0.3~1.0mol;电镀时高纯石墨或钛板为阳极,将经过常规镀前预处理后的钢铁或铜工件作阴极;气体搅拌、机械搅拌或超声波搅拌;电解液pH值控制在2-3,控制施镀温度在20~40℃,沉积过程中通过控制阴极电流密度为10~50A/dm2,电沉积时间为20~120分钟能够沉积出厚度为15μm~100μm的铬-碳纳米管复合镀层。
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