[发明专利]一种硅薄膜太阳能电池的制作方法无效
申请号: | 200810143065.6 | 申请日: | 2008-10-08 |
公开(公告)号: | CN101364619A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | 万青;易宗凤 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 | 代理人: | 邓建辉 |
地址: | 410082湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅薄膜太阳能电池的制作方法,首先将纯度大于99.999%的P型高纯多晶硅粉碎至粒度为5-50微米的高纯多晶硅粉末,然后涂敷于结合有铝电极的衬底上,形成高纯p型硅微米颗粒膜;通过退火工艺使硅微米颗粒和金属导电底电极界面合金化,接着在所述的硅颗粒单层膜上沉积n型硅层,或者依次沉积本征硅层、n型硅层;最后沉积一层透明导电电极层。本发明采用高纯多晶硅源料破碎、涂覆这一独特技术可以在玻璃、塑料、金属薄片等衬底上实现高质量多晶硅薄膜的沉积,用于太阳能电池制作工艺方法简单、生产成本低、光电转换效率高,具有非常广泛的产业化价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 太阳能电池 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅薄膜太阳能电池的制作方法,其特征是:将纯度大于99.999%的p型高纯多晶硅气流粉碎至粒度为5—50微米的高纯多晶硅粉末,然后涂敷于导电衬底上,形成高纯p型硅微米颗粒膜层;接着在所述的硅颗粒单层膜上沉积n型硅层或者本征硅层后再叠加n型硅层,最后沉积一层透明导电电极层完成原型太阳能电池。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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