[发明专利]一种硅薄膜太阳能电池的制作方法无效

专利信息
申请号: 200810143065.6 申请日: 2008-10-08
公开(公告)号: CN101364619A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 万青;易宗凤 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 长沙市融智专利事务所 代理人: 邓建辉
地址: 410082湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种硅薄膜太阳能电池的制作方法,首先将纯度大于99.999%的P型高纯多晶硅粉碎至粒度为5-50微米的高纯多晶硅粉末,然后涂敷于结合有铝电极的衬底上,形成高纯p型硅微米颗粒膜;通过退火工艺使硅微米颗粒和金属导电底电极界面合金化,接着在所述的硅颗粒单层膜上沉积n型硅层,或者依次沉积本征硅层、n型硅层;最后沉积一层透明导电电极层。本发明采用高纯多晶硅源料破碎、涂覆这一独特技术可以在玻璃、塑料、金属薄片等衬底上实现高质量多晶硅薄膜的沉积,用于太阳能电池制作工艺方法简单、生产成本低、光电转换效率高,具有非常广泛的产业化价值。
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳能电池 制作方法
【主权项】:
1.一种硅薄膜太阳能电池的制作方法,其特征是:将纯度大于99.999%的p型高纯多晶硅气流粉碎至粒度为5—50微米的高纯多晶硅粉末,然后涂敷于导电衬底上,形成高纯p型硅微米颗粒膜层;接着在所述的硅颗粒单层膜上沉积n型硅层或者本征硅层后再叠加n型硅层,最后沉积一层透明导电电极层完成原型太阳能电池。
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