[发明专利]基板检测装置和基板处理装置无效
申请号: | 200810144324.7 | 申请日: | 2008-07-25 |
公开(公告)号: | CN101355045A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 猿渡健;吉原一博;佐佐泰志;大西浩之 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/00;H01L21/02;G01B11/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马少东;徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够正确地检测处于处理工序中的基板的保持状态的基板检测装置和具有该装置的基板处理装置。基板检测装置具有:拍摄图像生成机构,其用于拍摄所保持的基板,生成拍摄图像数据;保持位置确定机构,其基于拍摄图像,确定在保持机构中的基板的保持位置;保持状态判定机构,其将确定的基板的保持位置和假定保持位置进行比较,在两者一致时生成基板的保持状态为正常的检测结果,根据两者是否一致来生成基板的保持状态是否正常的检测结果;保持位置确定机构基于峰形数据所示出的峰值位置而确定基板的保持位置,所述峰形数据通过沿预定的基板的排列方向进行在预定的基板的圆周方向对构成基板像的像素的像素值的积算的操作来生成。 | ||
搜索关键词: | 检测 装置 处理 | ||
【主权项】:
1.一种基板检测装置,在对基板进行给定的处理的基板处理装置中,检测在能够保持多个基板的给定的保持机构上保持的基板的保持状态,其特征在于,具有:照明机构,其在给定的检测执行位置,对在所述保持机构上保持的基板照射照明光,拍摄图像生成机构,其对照射了所述照明光的基板进行拍摄,生成拍摄图像数据,保持位置确定机构,其基于由所述拍摄图像数据表现的基板的拍摄图像,确定在所述保持机构中的基板的保持位置,保持状态判定机构,其将由所述保持位置确定机构确定的基板的保持位置和作为所述基板的保持位置而预先假定的假定保持位置进行比较,在两者一致的情况下,生成所述基板的保持状态为正常这样的检测结果,在两者不一致的情况下,生成所述基板的保持状态有异常这样的检测结果;所述保持位置确定机构通过沿着预定的基板的排列方向进行操作,从而在生成表示积算值相对于所述排列方向的变化的峰形数据后,基于在所述峰形数据所表示出的峰值位置,确定所述基板的保持位置,其中,所述操作是在预定的基板的圆周方向上对在所述拍摄图像中构成基板的像的像素的像素值进行积算的操作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造