[发明专利]无掩模曝光装置有效
| 申请号： | 200810144948.9 | 申请日： | 2008-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN101398631A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 押田良忠;小林和夫 | 申请（专利权）人： | 日立比亚机械股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供工件上有弯曲和厚度不均时、也能够在工件表面上曝光均匀宽度的图案的无掩模曝光装置。设置板厚方向一面相对于板厚方向另一面是角度为θ的倾斜面的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)，和使楔形玻璃(717、727)中至少一个移动的移动装置，使楔形玻璃(717)的面(717u)与第2投影透镜(67)的光轴垂直设置、并且将组合成楔形玻璃(727)的面(727u)与(717u)面的距离为预定值δ的第1和第2两个楔形玻璃(717、727)设置在第2投影透镜(67)的入射侧或出射侧，第2投影透镜(67)的光轴方向的成像位置与曝光基板(8)表面错开时，通过以使间隔δ不变的方式将楔形玻璃(717)向角度θ方向移动，使第2投影透镜(67)的成像面定位在曝光基板(8)表面。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩模 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种无掩模曝光装置，由输出曝光照明光的曝光光源、2维空间调制器、第1投影透镜、微透镜阵列、第2投影透镜、支撑曝光基板并向垂直于上述第2投影透镜光轴的方向移动的载物台构成，其特征在于，设置第1和第2两个楔形玻璃和使上述楔形玻璃中的至少一个移动的移动装置，其中，上述第1和第2两个楔形玻璃的板厚方向的一面相对于板厚方向的另一面是角度为θ的倾斜面；使上述第1楔形玻璃的上述另一面与上述第2投影透镜的光轴垂直，并且将组合成上述第2楔形玻璃的上述一面与上述第1楔形玻璃的上述一面的距离为预定值的上述第1楔形玻璃和上述第2楔形玻璃设置在上述第2投影透镜的入射侧或出射侧；上述第2投影透镜的上述光轴方向的成像位置从上述曝光基板表面错开时，上述移动装置以使上述距离不变的方式向上述角度θ方向移动上述楔形玻璃中的任意一个，以将上述第2投影透镜的成像面定位在上述曝光基板表面。
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