[发明专利]四氢喹啉衍生物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810145433.0 申请日: 2005-04-01
公开(公告)号: CN101381345A 公开(公告)日: 2009-03-11
发明(设计)人: 洼田均;菅原正克;古川真利子;高野真由美;本村大辅 申请(专利权)人: 田边三菱制药株式会社
主分类号: C07D215/42 分类号: C07D215/42;C07D491/04;C07D401/14;C07D401/04;A61K31/47;A61K31/4545;A61K31/444;A61K31/4439;A61P3/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘 健;范 赤
地址: 日本大阪府大阪市*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及四氢喹啉衍生物及其制备方法,尤其是式(XIII-a)的非对映体混合物或其盐及其制备方法,其中R15′为氨基的光学活性保护基,R2为氢原子或任选被取代的烷基R3为氢原子或任选被取代的烷基;且R6、R7、R8和R9独立地为氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选被取代的烷基、任选被取代的烷氧基、任选被取代的烷基磺酰氧基或任选被取代的氨基;或者R6和R7、或R7和R8、或R8和R9可在末端组合形成亚烷基,该亚烷基可包含1到3个独立地选自氮、硫和氧原子的杂原子并且可具有取代基。
搜索关键词: 喹啉 衍生物 及其 制备 方法
【主权项】:
1.式(XIII-a)的非对映体混合物,或其盐:其中R15′为氨基的光学活性保护基,R2为氢原子或任选被取代的烷基;R3为氢原子或任选被取代的烷基;且R6、R7、R8和R9独立地为氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、任选被取代的烷基、任选被取代的烷氧基、任选被取代的烷基磺酰氧基或任选被取代的氨基;或R6和R7、或R7和R8、或R8和R9可在末端组合形成亚烷基,该亚烷基可包含1到3个独立地选自氮、硫和氧原子的杂原子并且可具有取代基。
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