[发明专利]照明光学系、曝光装置、及器件制造方法无效
| 申请号： | 200810146384.2 | 申请日： | 2005-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101369103A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 森坚一郎 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种照明光学系、曝光装置、及器件制造方法。该照明光学系使用来自光源的光照明被照明面，其中：在从光源到被照明面的光路中具有用于调整光的偏振光比的偏振光元件，而且，配置在从偏振光元件到被照明面的光路中的光学元件满足以下的式子：m+2σ＜1.0nm/cm其中，m：光学元件的玻璃材料的面内双折射量的平均值，σ：光学元件的玻璃材料的面内双折射量的标准偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 明光 学系 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照明光学系，使用来自光源的光来照明被照明面，其特征在于，具备：用于调整上述光的偏振光状态的偏振光元件；以及配置在上述偏振光元件和上述被照明面之间的反射镜，向上述反射镜的光线入射角度是45度±30度。
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