[发明专利]灌注成像技术中对位图进行处理的方法和系统无效
| 申请号： | 200810146956.7 | 申请日： | 2008-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101658428A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 杜光伟;朱磊 | 申请（专利权）人： | 西门子（中国）有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;G06T1/00;G06T7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100102北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种灌注成像技术中对位图进行处理的方法和系统，在设置的关键时刻对被扫描部位进行CT扫描，得到各关键时刻对应的位图；分别利用各像素在各位图中的CT值进行差值处理或拟合处理，获取各像素的时间密度曲线(TAC)；按照预设的处理策略利用各像素的TAC获取被扫描部位的特征参数。本发明提供的方法和系统仅需要在设置的少量几个关键时刻进行CT扫描，而不必像现有技术一样，为了获取被扫描部位的完整信息，需要采用很小的时间间隔频繁地对被扫描部位进行扫描以获取大量的位图，因此，本发明可以减少扫描过程中对被扫描部位的扫描次数，减轻了扫描时X射线对人体的伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 灌注 成像 技术 位图 进行 处理 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种灌注成像技术中对位图进行处理的方法，其特征在于，该方法包括：A、获取在设置的关键时刻对被扫描部位进行CT扫描所得到的各关键时刻对应的位图；B、分别利用各像素在所述各位图中的CT值进行差值或拟合处理，确定各像素的时间密度曲线TAC；C、按照预设的处理策略利用所述各像素的时间密度曲线TAC获取被扫描部位的特征参数信息。
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