[发明专利]在同一工件上两次涂镀铝硅钇涂层的方法无效
| 申请号： | 200810148044.3 | 申请日： | 2008-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN101445912A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 潘钢;叶勇松;郑四德;王轶;刘华平 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第五七一九工厂 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 611937*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种在同一工件上两次涂镀铝硅钇涂层的方法，旨在提供一种能够在厚度要求不一致的同一工件上实施两次涂镀涂层的工艺方法，以解决叶片表面铝硅钇涂层厚度设计值差异较大的问题。它包括，将工件置于含铝硅钇成份的真空阴极电弧离子镀设备的阴极与阳极之间，并施加电场，按常规工艺参数对上述工件实施第一次表面涂层；在所述的第一次表面涂层进行离子清理与涂镀过程中，上述工件是在旋转的状态下进行的，在第二次涂镀铝硅钇涂层过程中，工件处于静止状态，只对工件涂层厚度厚的部位进行定位涂镀，并对非涂镀的其余面用夹具保护。采用本方法，加工的铝硅钇涂层附着牢固、组织结构致密。适合于各种发动机叶片表面不同厚度铝硅钇涂层的涂镀加工。 | ||
| 搜索关键词： | 同一 工件 两次 镀铝 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种在同一工件上两次涂镀铝硅钇涂层的方法，包括，将工件置于含铝硅钇成份的真空阴极电弧离子镀设备的阴极与阳极之间，并施加电场，按常规工艺参数对上述工件实施第一次表面涂层，其特征在于，在所述的第一次表面涂层进行离子清理与涂镀过程中，工件是在旋转的状态下进行的，在第二次涂镀铝硅钇涂层过程中，工件处于静止状态，只对工件涂层厚度厚的部位进行定位涂镀，并对非涂镀的其余面用夹具保护。
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