[发明专利]相位差光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200810149122.1 | 申请日： | 2004-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101398502A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 鹿岛启二;黑田刚志 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘 建 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种相位差光学元件的制造方法，其中，包括：在透明基材上形成取向膜的取向膜形成工序；在所述取向膜上，将含有形成胆甾型液晶构造的具有胆甾型结构的液晶材料的相位差层形成用涂刷液，在不对所述取向膜实施摩擦处理的状态下进行涂布的涂布工序；对通过所述涂布工序形成于取向膜上的相位差层实施取向处理的取向处理工序；对通过所述取向处理取向了的相位差层实施固化处理而使之固化，将在所述相位差层内以液晶相的状态体现的胆甾型液晶构造进行固定化的固定化工序。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种相位差光学元件的制造方法，其特征是，包括：在透明基材上形成取向膜的取向膜形成工序；在所述取向膜上，将含有形成胆甾型液晶构造的具有胆甾型结构的液晶材料的相位差层形成用涂刷液，在不对所述取向膜实施摩擦处理的状态下进行涂布的涂布工序；对通过所述涂布工序形成于取向膜上的相位差层实施取向处理的取向处理工序；对通过所述取向处理取向了的相位差层实施固化处理而使之固化，将在所述相位差层内以液晶相的状态体现的胆甾型液晶构造进行固定化的固定化工序。
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