[发明专利]一种纳米晶合金涂层及其制备方法无效
申请号: | 200810149232.8 | 申请日: | 2008-09-17 |
公开(公告)号: | CN101353775A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 卢志超;倪晓俊;赵新彬;吴嘉伟;薄希辉;郭金花;李德仁;孙克;周少雄 | 申请(专利权)人: | 安泰科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C4/04 | 分类号: | C23C4/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 100081*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种纳米晶合金涂层及其制备方法。具体的,本发明涉及一种纳米晶合金涂层,其组成用原子比表示满足关系式:(Fe1-aM1a)100-x-y-z-α-β-γCuxSiyBzM2αM3βXγ式中M1为Co和Ni中的一种或两种,M2为Nb、W、Ta、Zr、Hf、Ti和Mo中的至少一种,M3为V、Cr、Mn、Al、Sc、Y、Au、Zn、Sn和Re中的至少一种,X为C、Ge、P、Ga、Sb、In、Be和As中的至少一种,0≤a≤0.5,0.1≤x≤3,0≤y≤30,0≤z≤25,且5≤y+z≤30,0.1≤α≤30,0≤β≤10,0≤γ≤10,涂层中的纳米晶体积百分含量为50%以上,纳米晶晶粒尺寸在100nm以下。本发明还涉及该涂层的用途和制备方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 合金 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种纳米晶合金涂层,其组成用原子比表示满足关系式:(Fe1-aM1a)100-x-y-z-α-β-γCuxSiyBzM2αM3βXγ 式中M1为Co和Ni中的一种或两种,M2为Nb、W、Ta、Zr、Hf、Ti和Mo中的至少一种,M3为V、Cr、Mn、Al、Sc、Y、Au、Zn、Sn和Re中的至少一种,X为C、Ge、P、Ga、Sb、In、Be和As中的至少一种,0≤a 0.5,0.1≤x≤3,0≤y≤30,0≤z≤25,且5≤y+z≤30,0.1≤α≤30,0≤β≤10,0≤γ≤10,涂层中的纳米晶体积百分含量为50%以上,纳米晶晶粒尺寸在100nm以下。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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