[发明专利]制作光掩模的方法

摘要

本发明提供一种制作光掩模的方法。首先，提供一透明基板，且在透明基板上形成一填充图案层与一掩模图案层。然后，在透明基板与掩模图案层上形成一晶体材料层，使填充图案层之间填满晶体材料层。之后，移除掩模图案层以及位于掩模图案层上的晶体材料层，以在透明基板上形成一光子晶体图案层。最后，移除填充图案层。

主权项

1.一种制作光掩模的方法，其特征在于包括：提供一透明基板，且于该透明基板的一表面上覆盖一填充材料层；图案化该填充材料层，以形成一填充图案层，且曝露出部分该透明基板；在该透明基板与该填充图案层上形成一晶体材料层，并使该填充图案层之间填满该晶体材料层；移除该填充图案层上的该晶体材料层，以在该透明基板上形成一第一光子晶体图案层；以及移除该填充图案层。