[发明专利]活塞环表面类金刚石复合涂层的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810150858.0 申请日: 2008-09-04
公开(公告)号: CN101665940A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 王立平;薛群基;张广安 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C8/24;C23C14/35
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 代理人: 方晓佳
地址: 730000甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种在活塞环表面获得具有高硬度、抗磨与自润滑特性的类金刚石复合涂层的制备方法。本发明通过低温等离子渗氮处理在活塞环表面生成一层具有结合强度高、高硬度、耐磨性好的氮化层,然后再采用磁过滤阴极弧—磁控溅射复合沉积一层具有固体润滑特性的无氢类金刚石表面层,最终在活塞环表面获得一种致密、平整光滑、具有优异抗磨损与自润滑性能的氮化/类金刚石复合涂层。该发明活塞环涂层比电镀硬铬活塞环或CrN镀层活塞环具有更好的综合性能。
搜索关键词: 活塞环 表面 金刚石 复合 涂层 制备 方法
【主权项】:
1、一种活塞环表面类金刚石复合涂层的制备方法,其特征在于该方法包括:A、低温等离子氮化处理:将待处理的活塞环置于脉冲直流低温等离子子渗氮炉中,在真空度达到2Pa,通入氮气和氢气的混合气进行等离子渗氮处理,电流密度为1~3mA/cm2,升温至400~580℃,保温1~6小时,然后随炉冷却至150℃,完成对活塞环表面的氮化处理;B、磁过滤阴极弧-磁控溅射复合沉积掺钛DLC涂层:将等离子渗氮处理后的活塞环表面进行抛光、清洗处理,最后在磁过滤阴极弧-磁控溅射复合沉积设备中沉积掺钛类金刚石涂层;沉积过程中,真空室的本底真空为5×10-4Pa,放电气压为0.5Pa,氩气气氛,阴极为高纯碳靶和钛靶,活塞环样品上施加200~1000V的负偏压,沉积时间为120~300min,沉积厚度为2~5μm的含钛DLC薄膜;自然冷却,最后得到氮化/类金刚石复合涂层活塞环。
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