[发明专利]乙烯二胺席夫碱型汗潜指纹荧光显现剂、合成及其应用无效
申请号: | 200810155992.X | 申请日: | 2008-10-22 |
公开(公告)号: | CN101381368A | 公开(公告)日: | 2009-03-11 |
发明(设计)人: | 刘景宁;徐同祥;陈春涛;杨蔚;韩艳丽 | 申请(专利权)人: | 江苏警官学院 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;C07C251/24;C07C249/02;A61B5/117;G01N21/64 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人: | 徐冬涛 |
地址: | 210012江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了乙烯二胺席夫碱型汗潜指纹荧光显现剂、合成及其应用,该化合物的结构如式(I)所示,主要包括双-(4,5-二氮杂芴-9-酮)缩乙烯二胺席夫碱型指纹荧光显现剂和双-(2-羟基苯甲撑)缩乙烯二胺席夫碱型指纹荧光显现剂两类。本发明化合物缩乙烯二胺席夫碱型指纹荧光显现剂荧光稳定性能好、荧光强度高、激发光光谱范围宽,在365nm~550nm波长光范围内均可被激发并发射荧光而显现指纹。由于在365nm~550nm波长光范围内均可被激发并发射荧光而显现指纹,其荧光性能方面优于国外DFO和WOP荧光显现剂。因此在使用时降低了对激发光源的要求,有利于在基层实战部门推广使用。 | ||
搜索关键词: | 乙烯 二胺席夫碱型汗潜 指纹 荧光 显现 合成 及其 应用 | ||
【主权项】:
1、一种具有式(I)结构的乙烯二胺席夫碱化合物,其中,X为或,R1为H、-OCH3、-OH、-SH或-CH3;R2为H、-OCH3或-SH。
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