[发明专利]一种锰掺杂氮化镓室温铁磁纳米材料及其制备方法无效
申请号: | 200810158073.8 | 申请日: | 2008-10-29 |
公开(公告)号: | CN101391758A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 秦晓燕;王泽岩;黄柏标;张晓阳 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C01B21/06 | 分类号: | C01B21/06 |
代理公司: | 济南圣达专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 王书刚 |
地址: | 250061山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种锰掺杂氮化镓室温铁磁纳米材料及其制备方法,该材料的化学式为:Mn/GaN,锰的掺入量为0.19%-3%。该材料的制备方法包括以下步骤:(1)按质量比20∶1∶0.24-12.8的比例将氧化镓、二氧化锰和活性炭粉的粉末在研钵中研磨10分钟充分混合;(2)将混合均匀的粉末放入石英坩埚,然后转移到管式炉中,通入流量为300ml/min的氨气,以25℃/min的升温速率升到850℃保持3个小时,然后在氨气气氛下自然降温至200℃,关闭氨气,自然降至室温,即得锰掺杂氮化镓纳米材料。本发明充分利用活性炭的强还原特性,有效抑制了合成过程中氧缺陷的含量,提高了锰元素的掺入量,得到了一维纳米结构的锰掺杂氮化镓材料,具有氧缺陷含量低、锰元素含量高、室温下铁磁性强的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 掺杂 氮化 室温 纳米 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种锰掺杂氮化镓室温铁磁纳米材料,其特征是:该材料的化学式为:Mn/GaN,锰的掺入量为0.19%-3%。
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