[发明专利]无电镀镍的方法及由该方法制得的电路板无效
申请号: | 200810161094.5 | 申请日: | 2008-09-26 |
公开(公告)号: | CN101684552A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 江德馨 | 申请(专利权)人: | 联鼎电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/32 | 分类号: | C23C18/32;C23C18/34;H05K3/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘培坤 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种无电镀镍的方法及由该方法制得的电路板,该无电镀镍的方法包括以下步骤:将被镀物置于第一镀液中;镀上第一镍层于被镀物上,其中第一镍层为镍磷合金;并且于第一镍层上镀上第二镍层,第二镍层为镍磷合金,其中第二镍层的磷含量实质上低于第一镍层的磷含量。通过上述的无电镀镍的方法可制得一电路板的表面镀层,即在电路板表面铜焊垫上施镀第一镍层及第二镍层;其中第一镍层为镍磷合金;第二镍层为镍磷合金;第二镍层覆盖于第一镍层之上;且第二镍层的磷含量实质上低于第一镍层的磷含量。以本发明的无电镀镍的方法所制成的电路板表面镀层兼具优良的焊锡性及抗蚀性。 | ||
搜索关键词: | 电镀 方法 法制 电路板 | ||
【主权项】:
1.一种无电镀镍的方法,包括以下步骤:将一被镀物置于一第一镀液中;于该被镀物上镀上一第一镍层,其中该第一镍层为镍磷合金;以及于该第一镍层上镀上一第二镍层,其中该第二镍层为镍磷合金,其中该第二镍层的磷含量低于该第一镍层的磷含量。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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