[发明专利]微影图形成形方法有效
| 申请号： | 200810161879.2 | 申请日： | 2008-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN101533218A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 许峰诚;陈建宏 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/26;G03F7/30;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种微影图形成形方法，包含下列步骤：形成一第一光阻图形于一基板上，第一光阻图形包含多个开口；形成一第二光阻图形于该第一光阻图形的该等开口间，且该第二光阻图形至少包含一开口；以及移除第一光阻图形以曝露第一光阻图形所覆盖的基板的部分。本发明的微影图形成形方法可以降低生产成本及降低关键尺寸的变化影响。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 成形 方法 | ||
【主权项】：
1、一种微影图形成形方法，其特征在于其包括以下步骤：形成一第一光阻图形于一基板上，该第一光阻图形包含多个开口；形成一第二光阻图形于该第一光阻图形的该等开口间，且该第二光阻图形至少包含一开口；以及移除该第一光阻图形以曝露该第一光阻图形所覆盖的该基板的部分。
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