[发明专利]一种加压型光催化反应系统无效
| 申请号： | 200810163497.3 | 申请日： | 2008-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN101481156A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | 陈金媛;许炉生;钱勇兴;张安平 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;C02F1/72 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人： | 黄美娟;冷红梅 |
| 地址： | 310014*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种加压型光催化反应系统，所述光催化系统以二氧化钛等半导体物质为光催化剂，以紫外灯为光源，其特征在于：所述光催化系统在1～5个大气压的氧气氛围中运行。本发明的有益效果主要体现在：本发明光催化系统氧化降解效率远远高于不额外施加氧气压力或施加氮气压力的情况，能量消耗低、催化剂易于回收重复利用，工业应用前景好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 加压 光催化 反应 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种加压型光催化反应系统，所述加压型光催化反应系统以半导体光催化剂为降解催化剂，以紫外灯为光源，其特征在于：所述光催化系统在1～5个大气压的氧气氛围中运行。
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