[发明专利]光刻设备和器件制造方法以及测量系统

摘要

本发明涉及光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使运动物体在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于投影系统运动；和测量装置，用以测量运动物体在基本上垂直于第一方向和第二方向的第三方向上的位移。按照本发明的光刻设备的特征在于包括编码器系统。

主权项

1. 一种光刻设备，它包括：辐射系统，用以提供投影辐射线束；投影系统，用以把所述投影线束投影在衬底的目标部分上；运动物体；位移装置，用以使所述运动物体基本上在第一方向和不同于第一方向的第二方向上相对于所述投影系统运动；测量装置，用以测量所述运动物体在基本上垂直于所述第一方向和所述第二方向的第三方向上的位移，其特征在于，所述测量装置包括线束源，所述线束源适合于向分束器发送偏振辐射线束，所述分束器适合于从所述线束源把所述偏振辐射线束射向反射面，所述反射面在所述第三方向上与辐射吸收面相邻，所述辐射吸收面用于吸收任何落于其上的偏振线束第一部分的任何辐射，所述反射面适合于接收所述偏振辐射线束的所述第一部分的一部分，并将所述偏振辐射线束的所述第一部分的所述部分反射到接收传感器，所述接收传感器在所述第三方向上检测被所述反射面反射的偏振辐射线束相对于所述接收传感器的任何位移。