[发明专利]成像设备和成像方法有效
申请号: | 200810166743.0 | 申请日: | 2008-10-23 |
公开(公告)号: | CN101546168A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 丸山彰久 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;G03G15/02;G03G15/00;G03G15/01;G03G13/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及成像设备和成像方法,该成像设备包括:可旋转的图像载体;充电单元,其与图像载体的表面接触并对该表面充电;曝光单元,其使该表面曝光并形成潜像;显影单元,其用显影剂使潜像显影;转印单元,其将显影的调色剂图像转印到转印接收件上;清洁单元,其设有板状清洁件,该板状清洁件具有面向上的自由端,该自由端的角部与图像载体的表面接触,清洁件清除在转印之后残留在所述表面上的显影剂;以及设在清洁件与转印单元之间的显影剂集中件,该显影剂集中件将清除的显影剂临时集中在所述自由端处;以及摩擦系数减小单元,该摩擦系数减小单元减小所述表面处的摩擦系数,并将非成像阶段期间的摩擦系数减小为小于成像阶段期间的摩擦系数。 | ||
搜索关键词: | 成像 设备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种成像设备,该成像设备包括:可旋转的图像载体;充电单元,该充电单元与所述图像载体的表面接触并对所述图像载体的表面充电;曝光单元,该曝光单元使所述图像载体的表面曝光并形成潜像;显影单元,该显影单元利用显影剂使形成在所述图像载体的表面上的潜像显影;转印单元,该转印单元将显影的调色剂图像转印到转印接收件上;清洁单元,该清洁单元设有:板状清洁件,该板状清洁件具有面向上的自由端,该自由端的角部与所述图像载体的表面接触,所述清洁件清除在所述转印单元转印之后残留在所述图像载体的表面上的显影剂;和设置在所述清洁件与所述转印单元之间的显影剂集中件,该显影剂集中件将清除的显影剂临时集中在所述清洁件的自由端处;以及摩擦系数减小单元,该摩擦系数减小单元减小所述图像载体的表面处的摩擦系数,并将非成像阶段期间的摩擦系数减小为小于成像阶段期间的摩擦系数。
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