[发明专利]涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备有效
申请号: | 200810168934.0 | 申请日: | 2008-09-27 |
公开(公告)号: | CN101408733A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | B·斯蒂夫克尔克;R·F·德格拉夫;J·C·H·马尔肯斯;M·贝克尔斯;P·P·J·伯克文斯;D·L·安斯陶特兹 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备,并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果,产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。 | ||
搜索关键词: | 涉及 浸没 光刻 技术 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种浸没光刻设备的流体处理系统的操作方法,所述方法包括:检测在所述流体处理系统的单相抽取器的出口侧处的压力变化;以及如果所述检测步骤表明流体处理系统和衬底和/或衬底台之间的流体限制水平下降到低于某一阈值,则产生一个信号。
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