[发明专利]涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备有效

专利信息
申请号: 200810168934.0 申请日: 2008-09-27
公开(公告)号: CN101408733A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: B·斯蒂夫克尔克;R·F·德格拉夫;J·C·H·马尔肯斯;M·贝克尔斯;P·P·J·伯克文斯;D·L·安斯陶特兹 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备,并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果,产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。
搜索关键词: 涉及 浸没 光刻 技术 方法 设备
【主权项】:
1.一种浸没光刻设备的流体处理系统的操作方法,所述方法包括:检测在所述流体处理系统的单相抽取器的出口侧处的压力变化;以及如果所述检测步骤表明流体处理系统和衬底和/或衬底台之间的流体限制水平下降到低于某一阈值,则产生一个信号。
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