[发明专利]半导体器件中的叠层电容器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810169585.4 申请日: 2008-10-14
公开(公告)号: CN101414606A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 房基完 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/822
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 李丙林;张 英
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种半导体器件中的叠层电容器包括形成于半导体衬底上和/或上方的第一电容器以及形成于第一电容器上和/或上方的第二电容器。第一电容器和第二电容器每个都具有多层层压结构,该层压结构包括下部电极、电容器介电层和上部电极。下部电极和上部电极中的至少两个相互垂直地排列以具有相同的宽度和/或表面区域。
搜索关键词: 半导体器件 中的 电容器 及其 制造 方法
【主权项】:
1. 一种半导体器件,包括:半导体衬底;第一电容器,形成于所述半导体衬底上方并且具有包括第一下部电极、第一电容器介电层和第一上部电极的层压结构;以及第二电容器,形成于所述第一电容器上方并且具有包括第二下部电极、第二电容器介电层和第二上部电极的层压结构,其中,所述第一下部电极、所述第一上部电极、所述第二下部电极和所述第二上部电极中的至少两个相互垂直地排列以具有相同的表面区域。
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