[发明专利]具有中继板的半导体器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810169908.X 申请日: 2006-04-06
公开(公告)号: CN101373719A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 西村隆雄;成泽良明;熊谷欣一 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/60;H01L23/488;H01L25/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 张龙哺;冯志云
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种具有中继板的半导体器件的制造方法,该制造方法包括如下步骤:a)将膜状粘附剂粘附到该中继板上;b)在第一部分处仅切割该中继板,而在第二部分处切割该中继板和粘附到该中继板上的粘附剂,从而形成多个分割的粘附在共用的单一膜状粘附剂上的中继板;以及c)将分割的中继板同时设置在半导体元件上。本发明的实施例能够以低成本制造半导体器件。
搜索关键词: 具有 中继 半导体器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种具有中继板的半导体器件的制造方法,该制造方法包括如下步骤:a)将膜状粘附剂粘附到该中继板上;b)在第一部分处仅切割该中继板,而在第二部分处切割该中继板和粘附到该中继板上的粘附剂,从而形成多个分割的粘附在共用的单一膜状粘附剂上的中继板;以及c)将分割的中继板同时设置在半导体元件上。
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