[发明专利]具有主动阻尼组件的光刻设备无效
申请号: | 200810170899.6 | 申请日: | 2008-10-23 |
公开(公告)号: | CN101446771A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | H·巴特勒;E·R·鲁普斯卓;M·W·M·范德维基斯特;J·德皮;C·A·L·德霍恩;S·布斯克尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备,包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统,和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统,所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统,所述界面阻尼块体连接到该投影系统,而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体,所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。 | ||
搜索关键词: | 具有 主动 阻尼 组件 光刻 设备 | ||
【主权项】:
1. 一种光刻设备,其包括:照射系统,构造成调节辐射束;支撑结构,构造成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束;衬底台,构造成保持衬底;投影系统,构造成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分;和,阻尼系统,用于衰减至少部分所述投影系统的振动,所述阻尼系统包括:连接到所述投影系统的界面阻尼块体和用于衰减至少部分所述界面阻尼块体的振动的主动阻尼子系统,所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体上,主动阻尼子系统包括:传感器,构造成检测所述界面阻尼块体位置的量;和致动器,构造成根据所述传感器提供的信号施加作用力到所述界面阻尼块体;和界面阻尼装置,其连接到所述界面阻尼块体,并构造成阻滞所述界面阻尼块体以所述界面阻尼块的本征频率移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810170899.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:记事板
- 下一篇:一种用于压制芯棒带台阶部件的模架装置