[发明专利]曝光用掩模、以及薄膜晶体管的制造方法

摘要

本发明目的在于提供一种曝光用掩模、以及薄膜晶体管的制造方法，可以高精度地形成带灰度抗蚀剂膜。曝光用掩模，具备：透明基板(100)；遮光膜(110)，其具有第一图案部分(110b)，该第一图案部分(110b)在该透明基板上形成为规定的重复图案即第一图案；半透明膜(120)，其形成在透明基板上包括形成有第一图案部分的第一图案区域(R2)的区域，且透过曝光光线的透射率比遮光膜高。

主权项

1、一种曝光用掩模，其特征在于，具备：透明基板；第一图案部分，其在该透明基板上由具有规定形状的一个以上的遮光膜形成；半透明膜，其形成在包含形成有所述第一图案部分的第一图案区域的区域，且透过曝光光线的透射率比所述遮光膜高。