[发明专利]光敏化合物和包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200810171829.2 | 申请日： | 2008-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN101435995A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 金政佑;金德倍;金宰贤 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;韩克飞 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了光敏化合物以及包含该光敏化合物的光致抗蚀剂组合物，该光敏化合物作为分子抗蚀剂，其粒径小于用于光致抗蚀剂的常规聚合物，并且该光敏化合物能够形成纳米组装。用以下通式表示所述光敏化合物。此外，本发明提供了光致抗蚀剂组合物，其包含1wt％至85wt％(重量％)的光敏化合物；相对于100重量份的光敏化合物，0.05至15重量份的光致产酸剂；以及相对于100重量份的光敏化合物，50至5000重量份的有机溶剂。在所述通式中，n是氧化异丙基(-CH(CH3)CH2O-)单体的重复个数，并且是1至40的整数，以及R是1至20个碳原子的烷基基团或3至20个碳原子的环烷基基团。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 化合物 包含 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.具有以下通式1结构的光敏化合物，[通式1]![]()
其中，n是氧化异丙基(-CH(CH3)CH2O-)单体的重复个数，并且是1至40的整数，以及R是1至20个碳原子的烷基基团或3至20个碳原子的环烷基基团。
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