[发明专利]循环利用副产物生产多晶硅的方法无效
| 申请号： | 200810172090.7 | 申请日： | 2008-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN101723371A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 杰克·布莱斯 | 申请（专利权）人： | 卓越诚信集团有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 北京中海智圣知识产权代理有限公司 11282 | 代理人： | 胡静 |
| 地址： | 英国英属*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明提供了一种有效地循环利用废液废气副产物的生产多晶硅的方法，工艺流程如下：提纯SiHCl3原料，生成SiHCl3精料，将SiHCl3精料在还原炉中进行H2还原反应，生成多晶硅和由HCl、H2、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的副产物，冷冻回收所述副产物，得到由SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的冷凝液和由HCl、H2组成的气体，处理所述气体，得到H2并输送到所述还原炉参与H2还原反应，其中，处理由HCl和H2组成的气体的方法为使所述气体与硅粉反应生成SiHCl3，将生成的SiHCl3作为SiHCl3原料使用；由SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的冷凝液循环进入所述还原炉参与H2还原反应。利用本发明提供的方法生产多晶硅能够提高原料利用率，减少污染，并且提高产品的纯度和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 循环 利用 副产物 生产 多晶 方法 | ||
【主权项】：
循环利用副产物生产多晶硅的方法，该方法为：提纯SiHCl3原料，生成SiHCl3精料，将SiHCl3精料在还原炉中进行H2还原反应，生成多晶硅和由HCl、H2、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的副产物，冷冻回收所述副产物，得到由SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的冷凝液和由HCl、H2组成的气体，处理所述气体，得到H2并输送到所述还原炉参与H2还原反应，其特征在于：处理由HCl和H2组成的气体的方法为使所述气体与硅粉反应生成SiHCl3，将生成的SiHCl3作为SiHCl3原料使用；由SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2组成的冷凝液循环进入所述还原炉参与H2还原反应。
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