[发明专利]前照式雪崩光电二极管无效
申请号: | 200810172141.6 | 申请日: | 2008-11-11 |
公开(公告)号: | CN101436621A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 潘忠;克雷格·西斯那 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/18 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种具有提高的本征响应度的前照式雪崩光电二极管(APD),以及一种制造这种前照式APD的方法。该前照式APD包括半导体材料的APD本体,其包括基板和设置在该基板的前表面上的堆叠层。该堆叠层包括吸收层、倍增层和场控制层。该APD本体的后表面被机械和化学地抛光,并且在吸收波带具有大于90%的反射率的反射器被设置在该APD本体的后表面上。因此,在第一次通过该吸收层未被吸收的入射光被该反射器反射而第二次通过该吸收层,从而增加了该前照式APD的本征响应度。 | ||
搜索关键词: | 前照式 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
1、一种前照式雪崩光电二极管APD,包括半导体材料的APD本体和反射器;其中,所述APD本体包括基板以及设置在所述基板的前表面上的堆叠层;所述堆叠层包括:用于吸收吸收波带的光以产生电流的吸收层,包括倍增区域以通过雪崩倍增倍增所述光电流的倍增层,以及控制所述吸收层和倍增层中的电场的场控制层;其中,所述APD本体的后表面被机械和化学地抛光;以及所述反射器对所述吸收波带具有大于90%的反射率,用于向所述吸收层反射所述吸收波带的光,所述反射器被设置在所述APD本体的后表面上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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