[发明专利]聚合物的制造方法、制造装置、聚合物的脱挥装置及脱挥方法无效
申请号: | 200810173806.5 | 申请日: | 2008-10-29 |
公开(公告)号: | CN101423600A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | 松尾俊明;上川将行;冈宪一郎;冈本成恭;加治屋隆司 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立工业设备技术 |
主分类号: | C08G63/78 | 分类号: | C08G63/78;C08G63/88;C08G63/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种聚合物的制造方法、制造装置、聚合物的脱挥装置及脱挥方法,在从被反应物脱挥单体时,可抑制伴随热分解而产生的聚合物的着色。其具备:具有被反应物的供给口(42)和排出口(43)的筒状卧式容器(41)、被反应物的搅拌装置(45)、从卧式容器的脱挥口(44)抽出挥发物质的脱挥装置;供给口设置在被反应物的熔融液面的下方,具有回收连接于脱挥口的挥发物质的回收容器(37)、真空泵(36),搅拌装置具有设置在卧式容器内的轴向的多个搅拌体(46)和使该搅拌体互为轴向进行连结的连结部件(47),连结部件离开搅拌体的虚拟旋转中心进行设置。 | ||
搜索关键词: | 聚合物 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种聚合物的制造方法,其中,使羟基羧酸的环状二聚体进行开环聚合反应而得到聚羟基羧酸,并对该聚羟基羧酸在熔融状态下进行搅拌,同时在比开环聚合反应时的压力低的压力下脱挥除去未反应的环状二聚体残存物,其特征在于,对于所述开环聚合反应而言,使用多个串联的聚合器连续地进行,所述串联的聚合器包括配置在最初段上的卧式聚合器和配置在最后段上的立式聚合器,其中,所述卧式聚合器包括:收容具有相对于地面水平配置的搅拌轴的搅拌体的卧式反应槽、形成于该卧式反应槽的一端侧并供给被反应物质的供给口、形成于所述卧式反应槽的另一端侧并排出所述被反应物质的排出口以及设置于所述卧式反应槽内的一个以上的堰;所述立式聚合器包括:收容相对于地面垂直配置的搅拌轴的立式反应槽、形成于该立式反应槽的上端侧并供给被反应物质的供给口、形成于所述立式反应槽的下端侧并排出所述被反应物质的排出口,所述脱挥除去通过如下连续进行:从卧式的槽的一端侧的供给口供给由所述开环聚合反应得到的被处理物,将多个棒状的矩形框在槽的长度方向上连结起来,使在虚拟旋转中心无搅拌轴的搅拌体在槽内沿槽周方向旋转,将所述被处理物从另一端侧的排出口排出,同时将脱挥气体从所述被处理物的熔融液面的上方的脱挥口排出。
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