[发明专利]可挠式超级电容结构与其制备方法有效

专利信息
申请号: 200810174894.0 申请日: 2008-11-11
公开(公告)号: CN101740223A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 林文婷;陈宏昌;蔡晓宽 申请(专利权)人: 财团法人纺织产业综合研究所
主分类号: H01G9/00 分类号: H01G9/00;H01G9/155;H01G9/048;H01G9/058;H01G9/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 任永武
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是一种可挠式超级电容结构与其制备方法,该可挠式超级电容的可挠式电极复合层,利用金属结构刺穿并固定其碳纤维层与金属集电层,使电极复合层于挠曲时还能使其复合层间彼此密合。
搜索关键词: 可挠式 超级 电容 结构 与其 制备 方法
【主权项】:
一种可挠式超级电容结构,至少包含:两可挠式电极复合层,各包含一碳纤维层与一金属集电层以金属结构刺穿固定两层,并使该碳纤维层与该金属集电层贴合;以及一隔离层,位于该两可挠式电极复合层之间。
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