[发明专利]利用光刻胶模板掩模的频率加倍无效
| 申请号： | 200810175121.4 | 申请日： | 2008-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101539721A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 克里斯多佛·D·本彻尔;戴会雄;立彦·苗;陈浩 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;G03F7/004;G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵 飞;南 霆 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明描述了一种利用光刻胶模板掩模的频率加倍的方法。根据本发明的实施例，首先提供其上形成有光刻胶层的器件层。图案化光刻胶层以形成光刻胶模板掩模。间隔物形成材料层被沉积在光刻胶模板掩模上。间隔物形成材料层被刻蚀，以形成间隔物掩模并暴露光刻胶模板掩模。光刻胶模板掩模随后被去除，并且间隔物掩模的图像最终被转移到器件层。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 光刻 模板 频率 加倍 | ||
【主权项】：
1.一种用于图案化膜的方法，包括：在器件层上形成光刻胶层；图案化所述光刻胶层，以形成光刻胶模板掩模；将间隔物形成材料层沉积在所述光刻胶模板掩模上；刻蚀所述间隔物形成材料层，以形成间隔物掩模并暴露所述光刻胶模板掩模；去除所述光刻胶模板掩模；以及将所述间隔物掩模的图像转移到所述器件层。
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