[发明专利]光掩模及其检查装置、方法、以及制造方法、图案转写方法有效
申请号: | 200810176394.0 | 申请日: | 2008-11-25 |
公开(公告)号: | CN101446753A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 吉田光一郎 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种光掩模及其检查装置、方法、以及制造方法、图案转写方法。对被检测体即接近式曝光用光掩模3,将至少包含在使用光掩模3的接近式曝光中使用的波长的光束的照明光通过数值孔径可变的照明光学系统2作为大致平行光照射,对光掩模3作为照明光照射,透过光掩模3的光束入射到物镜系统4,成像,经过物镜系统4的光束由摄像部件5接收。照明光学系统2的数值孔径能在进行接近式曝光的曝光机的来自光源的照明光的平行度调整所必要的范围中设定,物镜系统4将前侧焦面能从光掩模3的图案面只移动与曝光机的接近间隔对应的距离。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 及其 检查 装置 方法 以及 制造 图案 转写 | ||
【主权项】:
1. 一种接近式曝光用光掩模的检查装置,包括:保持部件,保持作为被检测体的接近式曝光用光掩模;光源,发出至少包含在使用所述光掩模的接近式曝光中所使用的波长的光束的照明光;照明光学系统,引导来自所述光源的照明光,对由所述掩模保持部件保持的所述光掩模,使所述照明光作为大致平行光照射,且数值孔径可变;物镜系统,入射对在所述光掩模照射所述照明光而透过所述光掩模的光束,并使该光束成像;摄像部件,接收经过所述物镜系统的光束;计算部件,解析由所述摄像部件取得的信息;第一移动部件,能够使所述照明光学系统、所述物镜系统和所述摄像部件在各个的光轴一致的状态下,在平行于所述光掩模的主面部的面内移动;第二移动部件,使所述物镜系统和所述摄像部件能够在光轴方向上移动;控制部件,控制所述第一和第二移动部件;能够在使用所述光掩模进行接近式曝光的曝光机中在来自光源的照明光的平行度调整所必要的范围内,设定所述照明光学系统的数值孔径;所述物镜系统使其前侧焦面能够从所述光掩模的图案面只移动与所述曝光机的接近间隔对应的距离。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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