[发明专利]光学聚焦传感器、检查设备以及光刻设备有效
| 申请号： | 200810177834.4 | 申请日： | 2008-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN101520608A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 威廉·卡夫;罗纳德·弗朗西斯克斯·赫尔曼·胡格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学聚焦传感器、检查设备以及光刻设备。为了探测衬底是否处在检查设备的焦平面上，一种光学聚焦传感器被布置为通过物镜接收辐射光束。光学聚焦传感器包括分束器，该分束器配置为将辐射光束分为第一子光束和第二子光束。使用每个子光束的光学路径中的孔和检测器，通过对比由每个检测器接收到的辐射量可以探测衬底是否处于焦点上。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 聚焦 传感器 检查 设备 以及 光刻 | ||
【主权项】：
1. 一种光学聚焦传感器，配置用于产生表示衬底相对于物镜的焦平面的位置的聚焦误差信号，所述光学聚焦传感器包括：分束器，其构造和布置为将辐射光束分为第一子光束和第二子光束，以分别与第一光学支路和第二光学支路相关，所述分束器进一步被构造和布置为将第一子光束通过第一孔导向第一检测器，并且将第二子光束通过第二孔导向第二检测器，其中所述第一孔被放置在所述第一光学支路中的物镜的第一后焦平面与所述第一检测器之间；并且所述第二孔被放置在所述物镜与所述第二光学支路中的物镜的第二后焦平面之间。
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