[发明专利]掩模坯件的制造方法及涂布装置有效
| 申请号： | 200810177837.8 | 申请日： | 2008-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101470343A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 宫田凉司;浅川敬司 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种掩模坯件的制造方法及涂布装置，其包括使从收容有液状抗蚀剂(21)的液槽(20)通过喷嘴(22)到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使基板和喷嘴相对移动，在被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂膜的工序。在该抗蚀剂膜的形成工序中，在对被涂布面涂布抗蚀剂(21)的过程中，一边向上述液槽(20)内补充抗蚀剂，一边进行控制使得液槽内的抗蚀剂的液面在一定高度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模坯件 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种掩模坯件的制造方法，其包括如下工序：使从收容有液状的抗蚀剂的液槽通过喷嘴到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使上述基板和上述喷嘴相对移动，在上述被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂膜，其特征在于，在对上述被涂布面涂布抗蚀剂的过程中进行控制，以使上述液槽内的抗蚀剂的液面高度一定。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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