[发明专利]掩模坯板的制造方法及光掩模的制造方法有效
申请号: | 200810177861.1 | 申请日: | 2008-06-12 |
公开(公告)号: | CN101419398A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 浅川敬司;宫田凉司 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种带有抗蚀剂膜的掩模坯板的制造方法,包括:一边从具有向一方向延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴中吐出抗蚀剂液、一边向与所述一方向相交叉的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对地扫描、在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序;其包括:准备在基板的主表面的除了沿周边的外周部之外的区域具有用于形成掩模图案的薄膜的基板的工序;和以下工序,所述工序为,以所述基板的主表面的沿着周边的外周部分的基板表面的露出面为接液开始部位,在使所述涂敷喷嘴的前端部接近所述基板表面的露出面,使所述抗蚀剂液接液所述基板表面的露出面时,在使所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔相对小的状态下开始接液,然后将所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔扩展到相对大的状态,结束接液。 | ||
搜索关键词: | 掩模坯板 制造 方法 光掩模 | ||
【主权项】:
1. 一种带抗蚀剂膜的掩模坯板的制造方法,所述制造方法具有以下工序:一边从具有向一方向延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴中吐出抗蚀剂液,一边向与所述一方向相交叉的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对地扫描,向所述被涂敷面涂敷所述抗蚀剂液,其特征在于,包括:准备基板的工序,所述基板在基板的主表面的除了沿周边的外周部分之外的区域具有用于形成掩模图案的薄膜;和以下工序,所述工序为,以所述基板的主表面的沿着周边的外周部分中的基板表面的露出面为接液开始部位,在使所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面接近,使所述抗蚀剂液接液到所述基板表面的露出面时,在使所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔为相对小的状态下开始接液,然后将所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔扩展到相对大的状态,使接液结束。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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