[发明专利]用于选择垂直介质偏析材料的装置、系统和方法有效
| 申请号： | 200810178218.0 | 申请日： | 2008-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101436412A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 戴青;霍·V·多;布鲁诺·马乔恩;高野贤太郎 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/65 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李昕巍 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于选择垂直介质偏析材料的装置、系统和方法，用于改善垂直记录介质中的磁晶粒偏析。该方法包括：提供衬底，其包括刚性支承结构；在该衬底上沉积软磁衬层；在该软磁衬层上沉积中间层；提供多种预期偏析物；确定预期偏析物的表面能和生成热；以及选择具有最低表面能和最高生成热的预期偏析物。该方法还包括提供表面能逐渐增大的至少一个层以最小化碳保护层和偏析物两者的表面能之间的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 选择 垂直 介质 偏析 材料 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种记录介质，用于垂直记录应用，该记录介质包括：衬底；保护层；形成于该衬底上的软磁衬层；设置于该软磁衬层和该保护层之间的中间层；设置于该中间层和该保护层之间的垂直磁记录层，该垂直磁记录层选择为具有基本垂直于其表面的磁各向异性轴和矫顽力；该垂直磁记录层包括多个磁晶粒和偏析物，该偏析物包括的材料选择为具有约130千卡每摩尔以上且约230千卡每摩尔以下的生成热和约300毫焦每平方米以下的表面能。
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