[发明专利]静电卡盘装置无效
| 申请号： | 200810178565.3 | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101409251A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | T·萨米尔;T·布卢克;D·格里马德 | 申请（专利权）人： | 因特瓦克公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;C23C16/458;C23C14/50;B23Q3/15;B25J15/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 邬少俊 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种静电卡盘包括通过其提供传热气体的倾斜导管或倾斜激光钻孔通路。倾斜导管和/或倾斜激光钻孔通路的一段沿着与所产生的用于将衬底保持到卡盘上的电场的轴不同的轴延伸，从而使等离子体弧和背侧气体的离子化最小化。可以将第一栓塞插入到所述导管中，其中所述第一栓塞的第一外部通道的一段沿着与电场的轴不同的轴延伸。可以将第一和第二栓塞插入到延伸穿过电介质部件和电极中的至少一个的陶瓷套筒。最终，电介质部件的表面可以包括在距电介质部件中心的径向距离处设置的压纹以便改善热传递和气体分布。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 卡盘 装置 | ||
【主权项】：
1、一种用于保持衬底的静电卡盘，该静电卡盘包括：限定用于支撑衬底的平坦表面的电介质部件；嵌入在所述电介质部件中的电极；以及至少一个延伸穿过所述电介质部件的用于背侧传热气体的导管，其中所述导管的至少一段沿着与所述平坦表面成倾斜角的轴延伸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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