[发明专利]防护薄膜组件、收纳防护薄膜组件的收纳容器及收纳方法有效
申请号: | 200810178631.7 | 申请日: | 2008-11-21 |
公开(公告)号: | CN101441405A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;B65D85/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件、收纳防护薄膜组件用的防护薄膜组件收纳容器、及将防护薄膜组件保存于防护薄膜组件收纳容器内的方法,特别是在大型防护薄膜组件中,可不使用隔离部而将防护薄膜组件保存于防护薄膜组件收纳容器内。为达成上述目的,在防护薄膜框架的遮罩粘接剂侧端面的一部分上形成未涂布遮罩粘接剂的区域,将该未涂布区域载置于设置在防护薄膜组件收纳容器内部且由聚硅氧烷凝胶等材料所构成的防护薄膜框架支持部上,再来,利用可插入设置在防护薄膜框架侧面上的孔部内的固定销与固定销的保持机构将防护薄膜框架保持固定在防护薄膜组件收纳容器内。由于不使用隔离部也能保护粘接层,故无须设置隔离部。 | ||
搜索关键词: | 防护 薄膜 组件 收纳 容器 方法 | ||
【主权项】:
1、一种防护薄膜组件,其特征为:在防护薄膜框架中,在形成有粘贴在遮罩上所需的粘接剂层的面内的一部分上,形成未涂布遮罩粘接剂的区域;且在该防护薄膜框架的侧面上设置非贯通的孔部,固定销可插入该孔部,以防护薄膜框架的上下端面不接触防护薄膜组件收纳容器的方式固定该防护薄膜组件。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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