[发明专利]碲铟汞光电探测器及其肖特基结构中介质膜的制备方法有效
申请号: | 200810181214.8 | 申请日: | 2008-11-13 |
公开(公告)号: | CN101436622A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 孙维国;张亮;赵岚;鲁正雄 | 申请(专利权)人: | 中国空空导弹研究院 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/18 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 浩;牛爱周 |
地址: | 47100*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及一种碲铟汞光电探测器及其肖特基结构中介质膜的制备方法。制作步骤是:1)首先除去碲铟汞晶片表面的损伤层、残留杂质以及自然氧化层,然后冲洗干净;2)将处理好的、欲进行硫化的碲铟汞晶片浸没在配制好的阳极化溶液中,将晶片接在设定好阳极化电流值的恒流电源的阳极,将一阴极置于阳极化溶液中并接恒流电源的阴极;3)接通恒流电源进行阳极化,生成的硫化物膜厚度为5~15nm厚,关闭恒流源电源;4)从阳极液中取出已生成硫化物膜的晶片,用去离子水冲洗干净。采用本发明的介质膜不含有导电物质氧化铟,可以降低肖特基势垒,增加量子效率,提高了器件的响应度。 | ||
搜索关键词: | 碲铟汞 光电 探测器 及其 肖特基 结构 中介 质膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种碲铟汞光电探测器,包括带有介质膜的肖特基结构,其特征在于:肖特基结构中的介质膜是一层硫化物介质膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的