[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 200810183830.7 申请日: 2007-02-27
公开(公告)号: CN101425328B 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 河原尊之;竹村理一郎;伊藤显知;高桥宏昌 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体器件,在利用自旋注入磁化反转的存储器中,实现高速动作时的低电流重写动作,抑制每个存储器单元的离差,并抑制读出干扰。在进行重写前,提供弱脉冲,使自旋状态不稳定,降低重写电流。利用重写电流在脉冲宽度中非线性地增大的区域进行读出,对干扰进行抑制。进而,通过利用位线电荷使注入自旋量恒定的驱动方法来抑制离差。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于:包括多条字线;多条位线,配置在与上述字线交叉的方向上;以及多个存储器单元,配置在上述字线和上述位线的预定的交点上,上述多个存储器单元的每一个,包括隧道磁阻元件,该隧道磁阻元件层叠有固定层、隧道膜及自由层;和MOSFET,它的栅极连接在上述字线上,它的漏极连接在上述隧道磁阻元件的一端上,上述固定层,邻接上述隧道膜地配置,该固定层的电子自旋的方向被固定在预定方向,上述自由层,邻接上述隧道膜的一个面,该面为与上述隧道膜的邻接上述固定层的面相对的面,该自由层的电子自旋的方向相对于上述固定层取平行、反平行中的任一方向,上述自由层的电子自旋,利用自旋注入磁化反转来写入信息,在进行上述写入动作时,使第一电流流过上述隧道磁阻元件中后,使比上述第一电流大的第二电流流过。
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